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[主观题]

有一块半导体材料的寿命是lus,无光照的电阻率是10Ω·cm。今用光照射,光被半导体均匀吸收,电子-空穴的产生率是1022cm-3·s-1 ,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多少比例?

有一块半导体材料的寿命是lus,无光照的电阻率是10Ω·cm。今用光照射,光被半导体均匀吸收,电子-空穴的产生率是1022cm-3·s-1,试计算光照下样品的电阻率,并求电导中少数载流子的贡献占多少比例?

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第1题

一块掺施主浓度为2x1016/cm3的硅片,在920℃下掺金到饱和浓度。然后经氧化等处理,最
后此硅片的表面复合中心为1010/cm2

①计算体寿命,扩散长度和表面复合速度;

②如果用光照射硅片并被样品均匀吸收,电子-空穴对的产生率为1011/cm3·s ,试求表面处的空穴浓度以及流向表面的空穴流密度是多少?

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第2题

一个n型CdS正方形品片,边长1mm.厚0.lmm,其长波吸收限510nm.今用1mW /com2的紫光( λ= 409
一个n型CdS正方形品片,边长1mm.厚0.lmm,其长波吸收限510nm.今用1mW /com2的紫光(λ= 409

一个n型CdS正方形品片,边长1mm.厚0.lmm,其长波吸收限510nm.今用1mW /com2的紫光(λ= 409.6mm )照射正方形表面,量子产额β=1。设光生空穴全部被陷,光生电子寿命rn =10-3s,电子迁移率μn= 100cm2/V·s,并设光照能量全部被晶片吸收,求下列各值。

①样品中每秒产生的电子空穴对数:

②样品中增加的电子数:

③样品的电导增量Ag;

④当样品上加以50V电压时的光生电流:

⑤光电导增益因子G.

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第3题

用光子流强度为P0,光子能量为hy的光照射一肖特基光电二极管。已知Eg > hy > qφB⌘
用光子流强度为P0,光子能量为hy的光照射一肖特基光电二极管。已知Eg> hy> qφB⌘

用光子流强度为P0,光子能量为hy的光照射一肖特基光电二极管。已知Eg> hy> qφB。(φ为接触势垒高度),则在金属层内产生的光生电子,有部分向半导体内发射。如金属中光的吸收系数为a,金属厚度为1。在离光照(金属)面x处,光生电子逸入半导体的几率为。设金属中光生电子量子产额为β。

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第4题

P型半导体的载流子是()

A.空穴

B.电子

C.光子

D.声子

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第5题

半导体的主要特点有()。

A.在纯净的半导体材料中,电导率随温度的上升而指数增加

B.半导体中杂质的种类和数量决定着半导体的电导率,而且在掺杂情况下,温度对电导率的影响较弱

C.在半导体中不可以实现非均匀掺杂

D.光的辐射、高能电子等注入可以影响半导体的电导率

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第6题

复合和产生是一对相对立的变化过程,复合将使得一对电子和空穴消失,在半导体中产生和复合并非总是同时存在的。()
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第7题

一块半导体样品的体积为axbxe如图所示.x轴方向有电流I,沿x方向加有均匀磁场B.实验测得a=0.10cm
,b=0.35cm,c=1.0cm,I=1.0mA,B=0.3T,样品两侧的电势差U=霍耳电压U=6.55mV.

(1)问这半导体是正电荷导电(空穴型)还是负电荷导电(电子型)?

(2)求载流子浓度,设霍耳系数仍具有式(7-8)的形式

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第8题

N型半导体是在本征半导体中加入()后形成的杂质半导体。

A.空穴

B.三价元素

C.五价元素

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第9题

半导体中自由电子和空穴数目相等这样半导体叫做()

A.N型半导体

B.P型半导体

C.本征半导体

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第10题

半导体中同时存在电子和空穴的根本原因是晶格的热振动使电子不断发生从导带到价带的热跃迁。()
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