第1题
①计算体寿命,扩散长度和表面复合速度;
②如果用光照射硅片并被样品均匀吸收,电子-空穴对的产生率为1011/cm3·s ,试求表面处的空穴浓度以及流向表面的空穴流密度是多少?
第2题
一个n型CdS正方形品片,边长1mm.厚0.lmm,其长波吸收限510nm.今用1mW /com2的紫光(λ= 409.6mm )照射正方形表面,量子产额β=1。设光生空穴全部被陷,光生电子寿命rn =10-3s,电子迁移率μn= 100cm2/V·s,并设光照能量全部被晶片吸收,求下列各值。
①样品中每秒产生的电子空穴对数:
②样品中增加的电子数:
③样品的电导增量Ag;
④当样品上加以50V电压时的光生电流:
⑤光电导增益因子G.
第3题
用光子流强度为P0,光子能量为hy的光照射一肖特基光电二极管。已知Eg> hy> qφB。(φ为接触势垒高度),则在金属层内产生的光生电子,有部分向半导体内发射。如金属中光的吸收系数为a,金属厚度为1。在离光照(金属)面x处,光生电子逸入半导体的几率为。设金属中光生电子量子产额为β。
第5题
A.在纯净的半导体材料中,电导率随温度的上升而指数增加
B.半导体中杂质的种类和数量决定着半导体的电导率,而且在掺杂情况下,温度对电导率的影响较弱
C.在半导体中不可以实现非均匀掺杂
D.光的辐射、高能电子等注入可以影响半导体的电导率
第7题
(1)问这半导体是正电荷导电(空穴型)还是负电荷导电(电子型)?
(2)求载流子浓度,设霍耳系数仍具有式(7-8)的形式
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