A.UV法
B.HPLC法
C.TOC法
D.TLC法
第1题
A.一般原料药合成中的残留物为目标反应物、溶剂等成分,对于接触多个原料药(或中间体)的共用设备,所有这些残留物都应该清洁干净
B.不同产品同一清洁程序可选对最难清洗品种验证
C.在清洁验证过程中要为每个残留物都制定限度标准并一一检测
D.通常,选择最难清洁的那个物质作为参照物,而且相较于溶剂人们更 关注目标反应物,因为它是影响下一批产品质量、安全性和疗效
第6题
A.使用的清洁剂和消毒剂取样回收率
B.残留物的性质和限度
C.残留物检验方法的灵敏度
D.设备使用情况
E.取样方法和位置
第7题
A.设备使用情况
B.设备清洁所使用的清洁剂和消毒剂
C.取样方法和位置
D.残留物的性质和限度
E.残留物检验方法的灵敏度
第8题
A.清洁剂和消毒剂
B.取样方法和位置
C.相应的取样回收率
D.残留物的性质和限度
E.残留物检验方法的灵敏度
第11题
A.设备使用情况
B.所使用的清洁剂和消毒剂
C.取样方法和位置以及相应的取样回收率
D.残留物的性质和限度
E.残留物检验方法的灵敏度
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